（4）二氧化硅是硅的一种化合 物,硅单质及其化合物的用途极其广 泛,制备硅半导体材料必须先得到高 纯硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法 是当前制备高纯硅的主要方法,生产 过程示意图如下：①写出由SiHCl3制备高纯硅的反 应方程式：.②在制粗硅的反应中,焦炭的作 用是 .
问题描述：
（4）二氧化硅是硅的一种化合 物,硅单质及其化合物的用途极其广 泛,制备硅半导体材料必须先得到高 纯硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法 是当前制备高纯硅的主要方法,生产 过程示意图如下：①写出由SiHCl3制备高纯硅的反 应方程式：.②在制粗硅的反应中,焦炭的作 用是 .
答
SiHCl3+H2=高温=Si+3HCl 焦炭的作用是当还原剂