（4）二氧化硅是硅的一种化合物,硅单质及其化合物的用途极其广泛,制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下：①写出由SiHCl3制备高纯硅的反应方程式：.②在

分类: 作业答案 • 2022-01-07 12:18:30

问题描述：

（4）二氧化硅是硅的一种化合物,硅单质及其化合物的用途极其广泛,制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下：①写出由SiHCl3制备高纯硅的反应方程式：.②在制粗硅的反应中,焦炭的作用是 .

答

SiHCl3+H2=高温=Si+3HCl焦炭的作用是当还原剂