硅的提纯原理,最好用方程式表示

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• XYZW是原子序数依次增大的短周期元素,且互不同族；其中只有两种为金属；X原子的最外层电子数与次外层电子数相等；X与WY与Z这两对原子的最外层电子数之和均为9.单质Y和W都可与浓的NaOH（1）YZW的原子半径由小到大的顺序是（用元素符号表示）（ZW2）的电子式是（），它在常温下呈液态，形成晶体时，属于（）晶体？（3）工业生产单质Y的原理是（）用化学方程式表示（4）X与Y化学性质相似，则X与浓的NaOH溶液反应的化学方程式是（）（5）等物质的量的单质W与FeBr2溶液反
• 生产电脑芯片的材料主要是高纯硅.工业生产硅的原理为：2C+SiO2Si+2CO↑,在反应中SiO2发生了 （填“氧化”或“还原”）反应.该反应生产的是粗硅,将粗硅提纯才能得到高纯硅,在提纯过程中发生的反应之一是：H2+SiCl4HCl+X,X的化学式为 .天原化工厂通过电解饱和食盐水获得的氢气可用于生产高纯硅.已知电解饱和食盐水生成氢气、氯气（Cl2）和烧碱,反应的化学方程式为：,产生的H2若在潮湿的Cl2中燃烧,会产生大量的“白雾”,“白雾”是 .
• X、Y、Z、W是原子序数依次增大的短周期元素，且互不同族；其中只有两种为金属元素；X原子的最外层电子数与次外层电子数相等；X与W、Y与Z这两对原子的最外层电子数之和均为9．单质Y和W都可与浓的NaOH溶液反应．请回答下列问题：（1）Y、Z、W的原子半径由小到大的顺序是______；（2）ZW2的电子式是______，它在常温下呈液态，形成晶体时，属于______晶体；（3）工业生产单质Y的原理是______（用化学方程式表示）；（4）X与Y化学性质相似，则X与浓的NaOH溶液反应的化学方程式是______；（5）0.1mol的单质W与50mL 1.5mol/L的FeBr2溶液反应，则被氧化的Fe2+和Br-的物质的量之比是______．
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