如图所示,甲乙两图为与匀强磁场垂直放置的两个金属框架,图乙除了一个电阻为零,自感系数为L的线圈外,其他部分与图甲都相同,AB导体以相同的加速度向右做匀加速直线运动,若位移相同（磁场向内）
问题描述：
如图所示,甲乙两图为与匀强磁场垂直放置的两个金属框架,图乙除了一个电阻为零,自感系数为L的线圈外,其他部分与图甲都相同,AB导体以相同的加速度向右做匀加速直线运动,若位移相同（磁场向内）
A.两图中AB导体都受向右的恒定拉力的作用
B.图甲AB收到拉力比乙中小
C.甲中AB拉力做功多
D.乙中AB拉力做功多
答
A.可知v在增加,则F安培力也在增加,为了要保持一定的加速度,则外力F也要增加.B.乙图中有线圈,则要减缓电流i的增加,则F安培力要小于甲图中的.由v²=2ax可知,最后末速度相同.mv²/2 = W外 - W安 ,可得到W外 比...